Новая технология сократит время производства чипов с недель до минут

В России разработали проект литографа для ускоренного выпуска чипов.

Российская команда при поддержке Национальной технологической инициативы представила проект многолучевого электронного литографа для производства современных микросхем. Ключевой элемент установки — мультикатод, который формирует сразу множество электронных лучей вместо одного. По расчётам разработчиков, это сократит время экспонирования кремниевой пластины с полутора-двух недель до 5–7 минут — примерно в 3 тысячи раз быстрее традиционных систем.

Технология мультикатода уже создана и прошла практические испытания, рассказал «Известиям» главный разработчик проекта Евгений Гиваргизов. В отличие от зарубежных решений, где один луч разделяется сложной системой зеркал и затворов, российская разработка формирует множество независимых источников электронов на единой подложке. Это должно снизить стоимость оборудования и требования к инфраструктуре. Первый опытный образец планируют создать примерно через три года. Технология сможет использоваться для производства микросхем с нормами от 350 нм до нескольких нанометров.

Эксперты отмечают, что концепция выглядит перспективной и при успешной реализации способна ускорить производство и снизить зависимость России от импортного оборудования.